SiO₂系ガラスに出発原料として金属アルミニウムを添加し、 大量の酸素欠陥を含有させたガラス（目視では無色透明）にフェムト秒レーザーを 集光照射することで、元素移動により中心領域にSi元素が集まるとともにSi-O結合が 切断され、切断されたOイオンがAlの酸化により補足されることでSiが凝集析出することを 確認しました。

さらに、レーザー照射後、熱処理することでガラス内部へのSi構造体の 形成が可能です。

Si（n≒3.34）とガラス（n≒1.5）との大きな屈折率差を利用した ナノ細線3次元光回路やフォトニック結晶への応用研究を展開しています。