我々は、フェムト秒レーザーを用いて材料内部を三次元的に構造改質することで、 様々な微小光デバイスを開発してきました。

従来の方法では、 構造を１点ずつ描き込むために、エネルギー利用効率やスループットが 問題になっていましたが、フェムト秒レーザーと液晶空間光変調素子とを組み合わせ、 任意の強度の空間分布を持ったレーザービームを作り出すことで、 一回の照射で複雑なパターンを書き込める「一括描画システム」を開発しました。

現在、このシステムを利用した新しい機能材料の開発を行っています。